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電鍍添加劑測(cè)定儀特點(diǎn)
電鍍添加劑測(cè)定儀特點(diǎn)：電鍍添加劑測(cè)定儀使用結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、性?xún)r(jià)比好的旋轉(zhuǎn)鉑盤(pán)電極。在每次測(cè)定前，電極需要進(jìn)行電化學(xué)預(yù)處理，這已在方法中設(shè)置好、并*自動(dòng)重復(fù)直至測(cè)定值穩(wěn)定。采用CVS或CPVS可以準(zhǔn)確測(cè)定添加劑的含量。
電鍍添加劑測(cè)定儀特點(diǎn)及主要功能：
循環(huán)伏安溶出分析 （CVS）和循環(huán)脈沖伏安溶出分析（CPVS）是電鍍行業(yè)中廣泛應(yīng)用的方法。許多鍍層技術(shù)，特別是電路板（PCBs）制造業(yè)，這個(gè)方法是生產(chǎn)控制的重要組 成部分。添加劑的定量是通過(guò)其對(duì)槽液主成份沉積的影響而進(jìn)行間接測(cè)定。由于測(cè)量是基于生產(chǎn)過(guò)程發(fā)生的電極反應(yīng)，所以可以直接測(cè)定添加劑的活性和效果。
各種類(lèi)型添加劑的定量測(cè)定需要專(zhuān)門(mén)的校正技術(shù)：線性近似法（LAT）或修正線性近似法可測(cè)定光亮劑。稀釋滴定法（DT）可測(cè)定抑制劑。
這些分析使用結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、性?xún)r(jià)比好的旋轉(zhuǎn)鉑盤(pán)電極。在每次測(cè)定前，電極需要進(jìn)行電化學(xué)預(yù)處理，這已在方法中設(shè)置好、并*自動(dòng)重復(fù)直至測(cè)定值穩(wěn)定。
采用CVS或CPVS可以準(zhǔn)確測(cè)定添加劑的含量。
電 鍍槽中添加劑的有效濃度以每升槽液中添加劑的毫升數(shù)來(lái)表示并打印出來(lái)。這意味著可以準(zhǔn)確的調(diào)節(jié)添加劑濃度。保證了操作的連續(xù)性和無(wú)干擾。特別是分析結(jié)果的 準(zhǔn)確性使該方法為電鍍行業(yè)所接受。其他方法，如經(jīng)典的候氏槽（Hull cell）法，僅能提供鍍層質(zhì)量的評(píng)估而不能測(cè)定添加劑濃度。
可調(diào)用預(yù)置的方法，只需要調(diào)整少量參數(shù)，就可以開(kāi)始測(cè)定。應(yīng)用報(bào)告中配置的方法可用于電鍍業(yè)*列的企業(yè)的鍍液分析?？梢陨暇W(wǎng)下載Metrohm 應(yīng)用報(bào)告（AB）和應(yīng)用簡(jiǎn)報(bào)（AN），其中有更深入的應(yīng)用方法。
電鍍添加劑測(cè)定儀zui重要的應(yīng)用領(lǐng)域：
· 酸銅鍍液
· 錫鉛鍍液
